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電子級三氟化氮

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NF3氣體在高能化學激光、電子工業(IC)以及太陽能光電產業等方面具有非常廣泛的應用。目前，昊華氣體擁有一條年產2000噸的NF3生產線，其生產工藝、設備均處于國內領先地位。

產品特性

NF3在室溫和大氣壓力下是無色、穩定和有毒的氣體。相對分子質量為71.002，沸點為-129.06℃。

應用說明

三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑。

應用領域

電子電器

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